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  • 濺射設備:CS-200z CS-200z
    在真空條件下,氬氣在DC或RF作用下產(chǎn)生氬離子,高能的氬離子撞擊靶材 產(chǎn)生濺射。濺射出的原子或分子離開(kāi)靶材,沉積在基板表面,形成薄膜。成膜種…
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  • 濺射設備:SME-200 SME-200
    全自動(dòng)多工藝對應用最大搭載7個(gè)工藝腔的濺射設備,可實(shí)現多種類(lèi)材料濺射,諸如高溫成膜(PZT等)、高精度側壁成膜、光學(xué)膜、化合物膜、合金膜等…
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  • 濺射設備:ULDIS系列 ULDIS系列
    1.對于光學(xué)薄膜的濺射裝置烏爾迪斯布系列,間模式?在數字濺射裝置進(jìn)化技術(shù),實(shí)現了光學(xué)薄膜的一個(gè)更高的質(zhì)量。 2.與美國JDS Uniphase達成新的許可協(xié)…
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  • 濺射設備:SIV-500 SIV-500
    用于particle抑制的通過(guò)型豎直濺射,可實(shí)現基板往復或line式搬送,多用于SiO、SiN等光學(xué)薄膜濺射,亦可用于金屬濺射。
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  • 刻蝕設備:INE-3085 INE-3085
    面向LED、Powerdevice、MEMS等諸多領(lǐng)域開(kāi)發(fā),搭載靜電吸附系統,采用更大的靜電托盤(pán),較常規設備擁有更高的刻蝕速率和更大的產(chǎn)能。同時(shí)搭載ULVAC專(zhuān)利的…
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  • 刻蝕設備:NE-550EXz NE-550EXz
    在高真空條件下,通過(guò)RF高頻放電,產(chǎn)生等離子體,在偏壓的作用下,通過(guò)物理和化學(xué)的作用,對特定的材料去除。蝕刻材料:金屬,GaN,In P,SiO2,Si …
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  • 刻蝕設備:NE-950EX NE-950EX
    在高真空條件下,通過(guò)RF高頻放電,產(chǎn)生等離子體,在偏壓的作用下,通過(guò)物理和化學(xué)的作用,對特定的材料去除。蝕刻材料:金屬,GaN,In P,SiO2,Si …
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  • 刻蝕設備:NE-5700 NE-5700
    量產(chǎn)用刻蝕設備N(xiāo)E-5700是可以對應單腔及多腔、重視性?xún)r(jià)比擁有擴展性的刻蝕設備,注重性?xún)r(jià)比。
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  • 刻蝕設備:NLD-570 NLD-570
    研究開(kāi)發(fā)向NLD干法刻蝕設備N(xiāo)LD-570,是搭載了愛(ài)發(fā)科獨創(chuàng )的磁性中性線(xiàn)(NLD- neutral loop discharge)等離子源的裝置,此NLD技術(shù)可實(shí)現產(chǎn)生低壓、低電子溫度…
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  • 刻蝕設備:NLD-5700 NLD-5700
    對應光學(xué)器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700是搭載了磁性中性線(xiàn)(NLD- neutral loop discharge)等離子源的量產(chǎn)用干法刻蝕裝置。(此愛(ài)發(fā)科獨創(chuàng )的NLD技術(shù)…
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  • PECVD:CC-200Cz CC-200Cz
    在真空條件下,通過(guò)射頻放電,讓氣體活化發(fā)生化學(xué)反應,在基板表面沉積形成薄膜。成膜種類(lèi):SiO2,SiNx ,SiON。等離子增強型,膜質(zhì)好,均勻性高,L…
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  • PECVD:CX-500z CX-500z
    在真空條件下,通過(guò)射頻放電,讓氣體活化發(fā)生化學(xué)反應,在基板表面沉積形成薄膜。成膜種類(lèi):SiO2,SiNx ,SiON。等離子增強型,膜質(zhì)好,均勻性高,L…
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  • 蒸發(fā)設備:蒸發(fā)Ei系列 ei-5z 蒸發(fā)Ei系列 ei-5z
    1.Batch式高真空蒸發(fā)設備ei系列是可對應在基板上成金屬膜或氧化物膜的設備??赏ㄟ^(guò)操作面板進(jìn)行集中控制,實(shí)現抽真空、成膜等作業(yè)內容的集中自動(dòng)…
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  • 蒸發(fā)設備:蒸發(fā)Ei系列 ei-7z 蒸發(fā)Ei系列 ei-7z
    1.Batch式高真空蒸發(fā)設備ei系列是可對應在基板上成金屬膜或氧化物膜的設備??赏ㄟ^(guò)操作面板進(jìn)行集中控制,實(shí)現抽真空、成膜等作業(yè)內容的集中自動(dòng)…
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  • 蒸發(fā)設備:蒸發(fā)Ei系列 ei-501z 蒸發(fā)Ei系列 ei-501z
    1.Batch式高真空蒸發(fā)設備ei系列是可對應在基板上成金屬膜或氧化物膜的設備??赏ㄟ^(guò)操作面板進(jìn)行集中控制,實(shí)現抽真空、成膜等作業(yè)內容的集中自動(dòng)…
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  • 蒸發(fā)設備:蒸發(fā)Esz系列 Esz-R-1/2 蒸發(fā)Esz系列 Esz-R-1/2
    Batch式高真空蒸發(fā)設備ei系列是可對應在基板上成金屬膜或氧化物膜的設備??赏ㄟ^(guò)操作面板進(jìn)行集中控制,實(shí)現抽真空、成膜等作業(yè)內容的集中自動(dòng)化…
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