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  • 濺射設備:CS-200z CS-200z
    在真空條件下,氬氣在DC或RF作用下產(chǎn)生氬離子,高能的氬離子撞擊靶材 產(chǎn)生濺射。濺射出的原子或分子離開(kāi)靶材,沉積在基板表面,形成薄膜。成膜種…
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  • 濺射設備:SME-200 SME-200
    全自動(dòng)多工藝對應用最大搭載7個(gè)工藝腔的濺射設備,可實(shí)現多種類(lèi)材料濺射,諸如高溫成膜(PZT等)、高精度側壁成膜、光學(xué)膜、化合物膜、合金膜等…
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  • 刻蝕設備:NLD-5700 NLD-5700
    對應光學(xué)器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700是搭載了磁性中性線(xiàn)(NLD- neutral loop discharge)等離子源的量產(chǎn)用干法刻蝕裝置。(此愛(ài)發(fā)科獨創(chuàng )的NLD技術(shù)…
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  • PECVD:CC-200Cz CC-200Cz
    在真空條件下,通過(guò)射頻放電,讓氣體活化發(fā)生化學(xué)反應,在基板表面沉積形成薄膜。成膜種類(lèi):SiO2,SiNx ,SiON。等離子增強型,膜質(zhì)好,均勻性高,L…
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  • 蒸發(fā)設備:蒸發(fā)Ei系列 ei-501z 蒸發(fā)Ei系列 ei-501z
    1.Batch式高真空蒸發(fā)設備ei系列是可對應在基板上成金屬膜或氧化物膜的設備??赏ㄟ^(guò)操作面板進(jìn)行集中控制,實(shí)現抽真空、成膜等作業(yè)內容的集中自動(dòng)…
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