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  • 濺射設備:CS-200z CS-200z
    在真空條件下,氬氣在DC或RF作用下產(chǎn)生氬離子,高能的氬離子撞擊靶材 產(chǎn)生濺射。濺射出的原子或分子離開(kāi)靶材,沉積在基板表面,形成薄膜。成膜種…
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  • 刻蝕設備:NE-550EXz NE-550EXz
    在高真空條件下,通過(guò)RF高頻放電,產(chǎn)生等離子體,在偏壓的作用下,通過(guò)物理和化學(xué)的作用,對特定的材料去除。蝕刻材料:金屬,GaN,In P,SiO2,Si …
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  • 刻蝕設備:NE-5700 NE-5700
    量產(chǎn)用刻蝕設備N(xiāo)E-5700是可以對應單腔及多腔、重視性?xún)r(jià)比擁有擴展性的刻蝕設備,注重性?xún)r(jià)比。
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  • PECVD:CC-200Cz CC-200Cz
    在真空條件下,通過(guò)射頻放電,讓氣體活化發(fā)生化學(xué)反應,在基板表面沉積形成薄膜。成膜種類(lèi):SiO2,SiNx ,SiON。等離子增強型,膜質(zhì)好,均勻性高,L…
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  • 蒸發(fā)設備:蒸發(fā)Ei系列 ei-501z 蒸發(fā)Ei系列 ei-501z
    1.Batch式高真空蒸發(fā)設備ei系列是可對應在基板上成金屬膜或氧化物膜的設備??赏ㄟ^(guò)操作面板進(jìn)行集中控制,實(shí)現抽真空、成膜等作業(yè)內容的集中自動(dòng)…
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