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  • 刻蝕設備:INE-3085 INE-3085
    面向LED、Powerdevice、MEMS等諸多領(lǐng)域開(kāi)發(fā),搭載靜電吸附系統,采用更大的靜電托盤(pán),較常規設備擁有更高的刻蝕速率和更大的產(chǎn)能。同時(shí)搭載ULVAC專(zhuān)利的…
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  • 刻蝕設備:NE-550EXz NE-550EXz
    在高真空條件下,通過(guò)RF高頻放電,產(chǎn)生等離子體,在偏壓的作用下,通過(guò)物理和化學(xué)的作用,對特定的材料去除。蝕刻材料:金屬,GaN,In P,SiO2,Si …
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  • 刻蝕設備:NE-950EX NE-950EX
    在高真空條件下,通過(guò)RF高頻放電,產(chǎn)生等離子體,在偏壓的作用下,通過(guò)物理和化學(xué)的作用,對特定的材料去除。蝕刻材料:金屬,GaN,In P,SiO2,Si …
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  • 刻蝕設備:NE-5700 NE-5700
    量產(chǎn)用刻蝕設備N(xiāo)E-5700是可以對應單腔及多腔、重視性?xún)r(jià)比擁有擴展性的刻蝕設備,注重性?xún)r(jià)比。
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  • 刻蝕設備:NLD-570 NLD-570
    研究開(kāi)發(fā)向NLD干法刻蝕設備N(xiāo)LD-570,是搭載了愛(ài)發(fā)科獨創(chuàng )的磁性中性線(xiàn)(NLD- neutral loop discharge)等離子源的裝置,此NLD技術(shù)可實(shí)現產(chǎn)生低壓、低電子溫度…
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  • 刻蝕設備:NLD-5700 NLD-5700
    對應光學(xué)器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700是搭載了磁性中性線(xiàn)(NLD- neutral loop discharge)等離子源的量產(chǎn)用干法刻蝕裝置。(此愛(ài)發(fā)科獨創(chuàng )的NLD技術(shù)…
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